极大规模集成电路制造装备，是一个长期受到国外垄断的领域，但是在国家“02专项”推动下，中国在这方面也开始大力发展。

天津华海清科机电科技有限公司（下称“华海清科”）常务副总经理李昆表示，国家要做集成电路装备国产化，有五大关键技术要解决好，化学机械抛光（CMP）是其中重要的一道，如果没有这一道，产业链是不完整的。

CMP是通过使用化学腐蚀和机械作用对加工过程中的晶圆进行平坦化处理，以获得纳米级的平整表面。

华海清科建立于2013年，是清华大学与天津市政府合作成立的专业研发生产IC产业CMP机台的高科技单位，他通过继承前身清华大学重点摩擦实验室多年开发积累的研磨知识并带领原研发团队生产出了型号为Universal300和Universal 300 Plus这两种机型应用于CMP领域。

华海清科主要从事CMP设备的研发、生产、销售与服务。公司核心团队成员来自清华大学及业内顶尖企业，公司拥有CMP技术专利100余项，是目前国内唯一具备研发和生产12英寸（300mm）铜CMP整机设备能力的企业。公司产品可广泛应用于IC制造、TSV/3D封装、MEMS、晶圆、基片等制造领域。

李昆介绍，对于集成电路制造业来讲，对供应链伙伴的选择极为慎重。设备商要实现从0到1的突破很难，有一个长期的传导过程，从客户到客户的客户，需要大量的数据证明可以用。参加这次展会们公司主要展示Universal 300 Plus这款机型，他的特点是可以与国际最先进的CMP机台相媲美的高效稳定的生产能力。

这款机台主要应用于IC行业的CMP领域，我们的客户目前有中芯国际，力合材料，上海ICRD等已承担起了产线生产的任务。

我公司希望能够让更多CMP领域的专家，客户看到并了解我们机台。

华海清科目前的产品有Universal-300化学机械抛光机、Planar-200系列多头抛光机、Universal-150抛光实验机等。其中，华海清科Universal-300A国内首款自主研发、生产的12英寸“干进干出”CMP设备，该设备已经于今年7月份进入中芯国际采购订单。

李昆表示，相较于国外CMP设备企业，华海清科的优势在于服务好，可以根据需求定制，客户需要什么测试定位功能，可以很快实现。未来我公司会坚持持续生产CMP机台，在提高优化升级机台的各发面性能的同时努力把机台推向国际化

虽然在产品稳定性和良率上稍微逊色，但由于中国研发，中国制造，使得华海清科成本更低，性价比更高。