• 标题
  • 全文

首页 > 三星加速6nm制程探索 台积电7nm流片13次

三星加速6nm制程探索 台积电7nm流片13次
2017-07-18 标签: 芯片  三星  台积电 来源:快科技


随着10nm芯片逐步渗透进消费电子产品,新的制程探索也在加速。目前已公布的7nm路线图中,GF和台积电的速度最快,三星事实落后。据韩媒报道,三星决定加快6nm的步伐,其中试产2019年初开启,量产在2019年下半年开工。此举旨在和台积电抢夺2019年高通和苹果的手机芯片代工合同。


Digitimes报道称,台积电目前已经流片了13张7nm样品芯片,2018年即可开始批量生产。


荷兰艾斯摩表示,EUV(极紫外)光刻机可用于7/6/5nm工艺,Intel、台积电、三星等都采购了相关设备。只是,目前唯一没有披露10nm以下明确规划的就是Intel了。




© Beijing Chuangxin Online Network&Technology Ltd     京ICP备05069643号

IC交易网订阅号

ETIME元器件