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中芯国际回应ASML断供光刻机报道:EUV还在纸面上,一切正常
2019-11-08 标签: 半导体  元件与制造 来源:IT之家

针对荷兰ASML公司延迟出货EUV光刻机的报道,中芯国际刚刚也作出了回应,称“极紫外光(EUV)还在纸面工作阶段,未进行相关活动。公司先进工艺研发进展顺利。目前,研发与生产的连结一切正常。客户与设备导入正常运作。”



早些时候ASML也澄清称,关于日经新闻(NIKKEI)有关中芯国际相关报导有误,“延迟出货”仅为其媒体推测,ASML从未评论或确认,对其将推测直接定性为事实作为新闻标题并在文中阐述,表示抗议。


ASML表示,对全球客户一视同仁。根据瓦圣纳协议,ASML出口EUV到中国需取得荷兰政府的出口许可(export license)。该出口许可于今年到期,ASML已经于到期前重新进行申请,目前正在等待荷兰政府核准。


据了解,中芯国际目前量产的最先进制程为14nm,12nm已经取得重大突破。而EUV光刻机主要用在7nm及以下制程。



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