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直追7nm水平 格芯推出12LP+工艺:性能提升20%
2019-09-26 标签: 半导体  元件与制造  新品 来源:快科技

在今天开始的全球技术大会GTC上,Globalfoundries(格芯,简称GF)宣布推出12LP+工艺,这是12nm LP工艺的改进版,性能提升20%,功耗降低40%。


从AMD拆分出来的GF公司去年8月份突然宣布放弃7nm及以下工艺,专注14/12nm及特种工艺,为此AMD也不得不将7nm订单完全转交给台积电。GF这边,14/12nm工艺依然会给AMD代工,现在的7nm锐龙及霄龙处理器的IO核心还是GF代工的。


虽然不追求更尖端的的工艺了,但是GF并不会停止技术升级,这次推出的12LP+工艺是在12nm LP(它又是在14nm工艺上改良的)基础上改良优化的,与后者相比性能提升了20%,功耗降低了40%,面积缩小了15%。


该工艺的一大特点是高速,SARM单元电压低至0.5V,支持处理器、内存之间的高速低功耗数据传输,这是计算及AI应用中的重要要求。


与此同时,GF还同步推出了适用于AI应用及程序/技术联合开发(DTCO)服务的设计参考套件,这两者都能从整体上提高AI电路的设计,实现低功耗、低成本的开发。


另外一个关键功能就是2.5D封装,该技术有助于将高带宽内存HBM与处理器集成在一起,以便进行高速、低功耗的数据传输。


GF表示12LP+工艺可以在AI应用中充分利用ARM的物理IP及POP IP核心,同时这两种IP方案也适用于原始的12nm工艺。


对于12LP+工艺,GF官方表示他们的12LP+解决方案可以给客户提供他们希望从7nm工艺中获得的性能、功耗优势,但NRE成本只有7nm工艺的一半,可以节约很多。此外,12nm工艺已经足够成熟,客户流片速度也会很快,有助于快速满足不断增长的AI市场需求。


根据GF的消息,12LP+工艺的PDK现在已经可用,正在跟多个客户合作,预计在2020下半年流片,2021年开始在纽约的Fab 8工厂量产。




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